DEhp C Silikon 2 Korrektur 140 ml
Korrekturwaschung auf C-Silikonbasis für zwei- und einphasige Verfahren. Sehr hoher Anfangsfluss. Rücksprungvermögen 98 %.
Korrekturwaschung auf C-Silikonbasis für zwei- und einphasige Verfahren. Sehr hoher Anfangsfluss. Rücksprungvermögen 98 %.